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預(yù)見2020：2020年中國CMP設(shè)備產(chǎn)業(yè)全景圖

2020-08-19 15:04

產(chǎn)業(yè)鏈——應(yīng)用于集成電路制造的核心環(huán)節(jié)

CMP技術(shù)，即化學(xué)機械拋光，為集成電路制造的核心技術(shù)，主要目的為實現(xiàn)芯片平坦化。

CMP設(shè)備為CMP技術(shù)應(yīng)用的載體，為集機械學(xué)、流體力學(xué)、材料化學(xué)、精細化工、控制軟件等多領(lǐng)城最先進技術(shù)于一體的設(shè)備，一般由檢測系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、拋光墊、廢物處理系統(tǒng)等組成，是集成電路制造設(shè)備中較為復(fù)雜和研制難度較大的設(shè)備之一。

圖表1：CMP設(shè)備產(chǎn)業(yè)鏈示意圖

圖表2：CMP設(shè)備在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中的應(yīng)用

產(chǎn)業(yè)政策——致力核心技術(shù)突破與應(yīng)用

我國政策對于CMP設(shè)備行業(yè)的推動主要體現(xiàn)在對半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的相關(guān)規(guī)劃和促進上。例如在《中國制造2025》中明確提出，要形成包括CMP設(shè)備在內(nèi)集成電路關(guān)鍵制造設(shè)備的供貨能力；《首臺（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2019年版）》中也將雙面化學(xué)機械研磨設(shè)備、硅片單面拋光機、銅化學(xué)機械拋光設(shè)備等CMP設(shè)備列入了其中，可見我國對于發(fā)展CMP設(shè)備的支持力度。

圖表3：我國CMP設(shè)備行業(yè)政策規(guī)劃解讀

技術(shù)工藝——步驟逐漸增多

CMP技術(shù)的概念是1965 年由Monsanto 首次提出。該技術(shù)最初是用于獲取高質(zhì)量的玻璃表面，如軍用望遠鏡等。1988 年IBM 開始將CMP 技術(shù)運用于4M DRAM 的制造中，而自從1991 年IBM將CMP 成功應(yīng)用到64M DRAM 的生產(chǎn)中以后，CMP 技術(shù)在世界各地迅速發(fā)展起來。

近年來，CMP技術(shù)從Planar Logic發(fā)展到3D FinFET，從2D NAND發(fā)展到3D NAND。隨著CMP工藝的演變，CMP步驟（循環(huán)次數(shù)）也在逐漸加多。其產(chǎn)物的表面也越來越精細。

圖表4：CMP工藝演變歷程