國產(chǎn)芯片制造再獲突破,自主芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈一步步完善
國產(chǎn)芯片制造材料龍頭廠商之一的多氟多發(fā)布公告指出它的高純電子化學(xué)品材料已規(guī)模量產(chǎn),并已正式成為臺積電的供應(yīng)商,這意味著國產(chǎn)芯片制造材料也已取得突破。
國人對于芯片制造可能更多是光刻機(jī)這種設(shè)備,然而芯片制造是一條相當(dāng)長的產(chǎn)業(yè)鏈,業(yè)界人士指出芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈包括了八大設(shè)備和八大材料,值得高興的是國產(chǎn)芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈共同努力下已一步步實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)化。
在芯片設(shè)備方面進(jìn)展較為迅速,此前業(yè)界人士指出國產(chǎn)芯片設(shè)備在清洗機(jī)、涂膠顯影機(jī)、離子注入機(jī)等設(shè)備方面都已達(dá)到14nm級別,目前正在研發(fā)7nm、5nm的設(shè)備,與世界先進(jìn)水平的差距也比較小了,并且正處于加速追趕中,與全球先進(jìn)水平的差距在快速縮短。
其中國產(chǎn)芯片制造設(shè)備當(dāng)中,刻蝕機(jī)是進(jìn)展最快的,國產(chǎn)刻蝕機(jī)已做到5nm,這也是國產(chǎn)設(shè)備中最先進(jìn)的部分,刻蝕機(jī)已獲得臺積電的認(rèn)可并被它采用,遺憾的是由于種種原因,技術(shù)最先進(jìn)的國產(chǎn)刻蝕機(jī)目前只有臺積電采用,三星、Intel等考慮種種因素不愿采用中國產(chǎn)的設(shè)備,因此國產(chǎn)刻蝕機(jī)在全球市場占有的份額還比較低。
讓人遺憾的恰恰是廣受關(guān)注的光刻機(jī)拖了后腿,據(jù)稱國產(chǎn)光刻機(jī)最先進(jìn)的也只能達(dá)到28nm工藝,這已成為中國芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈最薄弱的環(huán)節(jié),原因在于光刻機(jī)是諸多設(shè)備當(dāng)中最復(fù)雜的,畢竟ASML的光刻機(jī)也是集中歐美日等國先進(jìn)元件的精華。不過國產(chǎn)光刻機(jī)企業(yè)上海微電子連續(xù)斬獲訂單,正為它帶來源源不斷的收入,可望幫助它加速技術(shù)研發(fā),在光刻機(jī)技術(shù)方面加速追趕ASML。
芯片制造材料可能被國人所忽視,然而材料其實(shí)對于芯片制造非常重要,此前三星就因?yàn)楸蝗毡究ㄖ髁斯饪棠z等材料一度陷入停產(chǎn)恐慌,為此韓國集中全國科研技術(shù)研發(fā)光刻膠等材料,迅速解決問題,擺脫了日本的制約。
韓國用兩三年時(shí)間研發(fā)出自己的芯片制造材料,說明芯片制造材料也不是美國和日本制約其他國家發(fā)展芯片制造的重要障礙,只要集中力量可以很快突破。
多氟多迅速量產(chǎn)高純電子化學(xué)品材料,說明中國在材料研發(fā)方面確實(shí)也有厚實(shí)的基礎(chǔ),正因?yàn)槲覀兯鶕碛械脑鷮?shí)基礎(chǔ),得以迅速研發(fā)相關(guān)的芯片制造材料,可以預(yù)期其他與芯片制造的材料也將陸續(xù)解決。
中國對芯片制造的重視主要還是近幾年,而這幾年時(shí)間確實(shí)也在芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈方面加速完善,可以預(yù)期只要再花幾年時(shí)間,國產(chǎn)芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈解決了光刻機(jī)這個(gè)瓶頸之后,國產(chǎn)芯片制造完全自主化就將實(shí)現(xiàn),到那時(shí)候誰也無法阻止中國芯片制造的發(fā)展。
目前中國已成為全球第三大芯片制造產(chǎn)能大國,芯片制造工藝也已推進(jìn)至14nm,7nm工藝在中芯國際的推動(dòng)下也在加速量產(chǎn),業(yè)界人士指出一旦中芯國際的7nm工藝量產(chǎn),那么國內(nèi)對芯片的需求將有九成得以滿足。
芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈的成型,代表著國產(chǎn)芯片的最后一個(gè)環(huán)節(jié)即將攻克,這是中國制造的巨大成功,體現(xiàn)了只要堅(jiān)持艱苦奮斗,誰也擋不住中國制造前進(jìn)的腳步,自主創(chuàng)新將成為現(xiàn)實(shí)。
原文標(biāo)題 : 國產(chǎn)芯片制造再獲突破,自主芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈一步步完善
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